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倒裝結構發(fā)光二極管芯片研究取得新進展

時間:2017年11月06日 信息來源:武漢大學 點擊: 加入收藏 】【 字體:
倒裝結構發(fā)光二極管芯片研究取得新進展 《光學快報》發(fā)表劉勝課題組新成果 發(fā)布時間:2017-11-02 09:22  作者:  來源:動力與機械學院  訪問次數:

消息網訊(通信員周妍)動力與機械學院劉勝教授團隊在高服從倒裝結構發(fā)光二極管(LED)研究領域取得新進展,研究成果在光學領域聞名期刊Optics Express(《光學快報》)發(fā)表。

論文題為Numerical and experimental investigation of GaN-based flip-chip light-emitting diodes with highly reflective Ag/TiW and ITO/DBR Ohmic Contacts(《高服從氮化鎵基倒裝結構發(fā)光二極管芯片的數值仿真和實驗研究》),第一作者為動力與機械學院副教授周圣軍,通信作者為劉勝。

大功率倒裝結構LED芯片在汽車大燈、舞臺燈、投影儀和探照燈等以點光源、極高電流密度和光密度為特性的LED高端照明市場具有廣闊的應用前景。倒裝技術是三維封裝領域的核心技術,形成具有高反射率、低阻歐姆接觸的p型電極是高光效倒裝結構發(fā)光二極管(LED)芯片的關鍵技術。因為電子束蒸鍍Ag薄膜與p-GaN的粘接強度低、歐姆接觸電阻高,目前學術界和工業(yè)界通過在Ag薄膜下面插入一層Ni薄膜加強粘附強度,降低歐姆接觸電阻,然而因為Ni對可見光具有強烈的吸取作用,導致Ni/Ag的反射率急劇降落,從而降低了倒裝結構LED芯片的發(fā)光服從。

為了解決這一困擾學術界和工業(yè)界的難題,劉勝團隊采用離子束濺射仿真制備Ag膜進步Ag與p-GaN的粘附強度,在氮氣氛圍下600℃高溫快速熱退火使純Ag薄膜與p-GaN形成低阻歐姆接觸。盡管通過離子束濺射和高溫熱退火工藝解決了純Ag與p-GaN的粘結強度和歐姆接觸題目,然而高溫退火使純Ag薄膜發(fā)生團簇,導致Ag膜反射率降落。通過大量實驗,他們發(fā)現,在Ag薄膜上濺射一層TiW薄膜可以有用克制高溫退火工藝中Ag膜發(fā)生的團簇征象,從而獲得了具有高反射率、低阻歐姆接觸的p型電極Ag/TiW,并成功應用于倒裝結構LED芯片中。

基于大電流密度LED 芯片特種照明技術的突破,有望顯明提拔我國半導體照明產業(yè)的國際競爭力。劉勝團隊基于漂移-擴散方程、載流子延續(xù)性方程和熱傳輸理論,建立了超大電流密度的LED 芯片電-光-熱-可靠性分析模型,對倒裝結構LED芯片進行了優(yōu)化設計,成功制備了以Ag/TiW為p型歐姆接觸的高光效、大電流密度倒裝LED,使芯片光輸出飽和電流進步到原來的兩倍。

該項研究課題得到國家天然科學基金重點項目的資助(U1501241),研究成果有望在汽車照明和特種照明領域得到應用。

 

>>>論文鏈接:

https://www.osapublishing.org/oe/abstract.cfm?uri=oe-25-22-26615

(編輯:肖珊)

武漢大學函授報名、武漢大學成人高考報名
(作者:佚名 編輯:武漢大學)
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